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正性光刻胶用 PAC光敏剂
HRcure 215S
2-重氮-1-萘酚-5-磺酸钠
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半导体光刻胶用 阳离子型光引发剂
HRcure-2074
4-异丙基-4'-甲基二苯基碘离子四(五氟苯基)硼酸盐
HRcure-250
4-异丁基苯基-4'-甲基苯基碘六氟磷酸盐
PCB光刻胶用光引发剂
HRcure TCDM
2,2',4-三(2-氯苯基)-5-(3,4-二甲氧基苯基)-4'5'-二苯基-1,1'-二咪唑
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HRcure 784
双2,6-二氟-3-吡咯苯基二茂钛
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全氟硅烷
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F13C8M
有机硅类助剂
HR-3700E
100
含丙烯酸官能团的反应型有机硅
HR-3700D
HR-5000
含羟基官能团反应型有机硅
HR-5000N
含羟基聚二甲基硅氧烷
农药增效剂
HR-200PS
20
水性氟素离型剂
HR-175WR
7.5
